光敏刻章制作过程有哪些?

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光敏刻章制作过程有哪些?光敏印章是我国很多年前发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章,那么,光敏刻章制作过程有哪些?

光敏刻章制作过程有哪些?八大步骤

1、用激光打印机将制作好的样稿打印在硫酸纸上。

2、按样稿规格覆盖上透明曝光膜,其大小以完全覆盖样稿为准。

3、打印样稿、曝光膜、光敏印章垫三者之间的顺序及朝向为:打印样稿在最上层,打印面朝下,中间层为曝光膜,第三层为光敏印章垫。三者依次平稳紧密接触,中间严禁有间隙式褶皱,压紧卡具。将卡具放入光敏机。

4、接通电源,并打开电源总开关,再打开充电开关,光敏机开始充电。

5、待光敏机充电指示达到该章垫所需曝光电压时,关闭电源,按下触发按扭,完成曝光。

6、将曝光盒从机器内取出,打开曝光盒,将曝光好的章垫取出,揭掉硫酸纸和曝光膜。

7、将曝光好的印垫放入相应的章壳内。

8、按印章规格注入标量印油,印油被吸收分布均匀后,即可交付客户使用。

光敏刻章制作过程有哪些?以上介绍的是光敏刻章制作过程有哪些这个问题,我相信大家看完之后都了解清楚了吧,如果还有哪些客户还没了解清楚的,可以下面的留言框给我们留言,我们一定会在第一时间回复大家的。

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